Çinko Klorür — Frequently Asked Questions

Lehim, oksit filmi taşıyan bir metali ıslatmaz ve bağlantının ısıtılması bu filmin daha hızlı büyümesine yol açar. Çinko klorür, lehimleme sıcaklığında nem varlığında hidroliz olarak hidroklorik asit açığa çıkarır; bu asit tam lehim aktığı sırada oksidi temizler, ardından erimiş tuz yüzeyi kaplayarak bağlantı tamamlanmadan yeniden oksitlenmesini engeller.

Evet. Bağlantıyı temizleyen aynı asitlik, sonrasında onu korozyona uğratır ve çinko klorür kalıntısı higroskopik olduğundan nem çeker ve korozyonu sürdürür. Bu tür aktif bir flaksla yapılan bağlantılar lehimlemeden sonra iyice yıkanmalıdır; elektronik işlerinde genellikle daha yumuşak reçine esaslı flaksların kullanılmasının nedeni de budur.

Bilinen en yüksek suda çözünürlüğe sahip tuzlardan biridir ve güçlü şekilde deliküessandır; havadaki nemi içinde çözünecek kadar çeker. Ambalajlar sızdırmaz şekilde kapalı tutulmalı ve malzeme kuru ortamda depolanmalıdır, çünkü açıkta kalan çinko klorür sıvılaşarak aşındırıcı bir çözelti oluşturur. Suya olan bu ilgisi, dehidrasyon ve kondensasyon ajanı olarak kullanımının da temelidir.

Lewis asidi katalizörü olarak kullanılır. Bir elektron çifti alarak substratları aktive eder; bu özellik Friedel-Crafts reaksiyonlarında ve alkolleri ayırt edip dönüştürmede kullanılan Lucas reaktifinde değerlendirilir. Bu dönüşümlerin çoğunda alüminyum klorüre göre daha ucuz ve daha kolay kullanılır, ancak daha zayıf bir Lewis asididir.