Por que o PMA é o solvente padrão na fotolitografia de semicondutores?
Ele dissolve as resinas novolaca e as resinas quimicamente amplificadas usadas em fotorresistes, molha uniformemente as lâminas de silício para que o filme aplicado por spin coating fique uniforme e evapora de forma limpa, sem deixar resíduo. Seu perfil toxicológico favorável em comparação com os acetatos da série etilênica também é relevante em sala limpa. É utilizado tanto como veículo do fotorresiste quanto como solvente de limpeza e de remoção de borda (edge-bead removal).
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Como o PMA grau semicondutor difere do grau revestimentos?
Em ordens de grandeza na especificação de pureza. O grau eletrônico controla íons metálicos em partes por bilhão e especifica contagem de partículas, porque um único íon metálico ou partícula no lugar errado arruína uma lâmina que vale muito mais do que o solvente. O grau para revestimentos não possui tais exigências. Os dois não são intercambiáveis e o grau deve ser informado na consulta.
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O PMA pode ser usado em revestimentos de poliuretano bicomponente?
Sim, e essa é uma de suas principais aplicações em revestimentos. Como a hidroxila está esterificada, não há hidrogênio ativo para reagir com o isocianato, de modo que o solvente é inerte à química de reticulação. Sua taxa de evaporação moderada atende tanto a acabamentos por pulverização quanto a acabamentos de estufa, tornando-o uma escolha de uso geral nesse sistema.
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O PMA também é chamado de PGMEA?
Sim. PGMEA é a abreviação técnica corrente, especialmente em eletrônica, e ambas se referem ao acetato de éter monometílico de propilenoglicol, CAS 108-65-6. O número CAS junto com a especificação de grau é a forma confiável de comprar, já que os nomes comerciais e técnicos variam.
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