Warum ist PMA das Standardlösemittel in der Halbleiter-Fotolithografie?
Es löst die in Fotolacken eingesetzten Novolak- und chemisch verstärkten Harze, benetzt Siliziumwafer gleichmäßig, sodass der aufgeschleuderte Film eben ist, und verdunstet rückstandsfrei. Auch das im Vergleich zu den Acetaten der Ethylenreihe günstigere toxikologische Profil ist im Reinraum von Bedeutung. Es wird sowohl als Trägerlösemittel für den Fotolack als auch als Reinigungs- und Edge-Bead-Removal-Lösemittel verwendet.
2
Worin unterscheidet sich PMA in Halbleiterqualität von Beschichtungsqualität?
Um Größenordnungen in der Reinheitsspezifikation. Die Elektronikqualität begrenzt Metallionen im Bereich von Teilen pro Milliarde und spezifiziert Partikelzahlen, denn ein einziges Metallion oder Partikel an der falschen Stelle verdirbt einen Wafer, der weit mehr wert ist als das Lösemittel. Die Beschichtungsqualität kennt solche Anforderungen nicht. Beide sind nicht austauschbar, und die Qualität muss bei der Anfrage angegeben werden.
3
Kann PMA in Zweikomponenten-Polyurethanbeschichtungen eingesetzt werden?
Ja, und das ist eine seiner wichtigsten Beschichtungsanwendungen. Da die Hydroxylgruppe verestert ist, steht kein aktiver Wasserstoff für eine Reaktion mit Isocyanat zur Verfügung; das Lösemittel ist gegenüber der Vernetzungschemie somit inert. Die moderate Verdunstungsgeschwindigkeit eignet sich für Spritz- wie für Einbrennlacke und macht es zu einer universellen Wahl in diesem System.
4
Wird PMA auch PGMEA genannt?
Ja. PGMEA ist die gebräuchliche technische Abkürzung, besonders in der Elektronik, und beide bezeichnen Propylenglykolmonomethyletheracetat, CAS 108-65-6. Die CAS-Nummer zusammen mit der Qualitätsspezifikation ist die zuverlässige Bestellgrundlage, da Handels- und Fachbezeichnungen variieren.
Still have questions?
Our team is ready to help with any specific enquiries about PMA - Propylenglykolmonomethyletheracetat.